Đó làBuồng thạch anh đóng vai trò như một vỏ bọc quan trọng cho quá trình xử lý quang điện và chất bán dẫn nhiệt độ cao, độ tinh khiết cao. Được làm từ thạch anh nung chảy cao cấp, buồng có khả năng chống sốc nhiệt, trơ hóa học và độ trong suốt quang học tuyệt vời, đảm bảo môi trường không bị nhiễm bẩn trong các quá trình như lắng đọng hơi hóa học (CVD), oxy hóa và khuếch tán.

Được thiết kế để chứa các tấm wafer 200 mm, buồng cung cấp nhiệt độ và phân phối khí đồng đều, điều cần thiết để đạt được kết quả quy trình nhất quán và năng suất thiết bị cao. Cấu trúc được thiết kế chính xác của nó chịu được chu kỳ nhiệt nghiêm ngặt trong khi vẫn duy trì tính toàn vẹn của cấu trúc và giảm thiểu tạo hạt.

Buồng thạch anh để khắc plasma: Đảm bảo độ tinh khiết của quy trình

Buồng thạch anh đóng một vai trò quan trọng trong hệ thống khắc plasma, cung cấp một môi trường trơ về mặt hóa học và ổn định nhiệt cần thiết cho quá trình xử lý chất bán dẫn có độ chính xác cao. Được chế tạo từ thạch anh nung chảy có độ tinh khiết cao, các buồng này chống ăn mòn từ khí plasma phản ứng, ngăn ngừa ô nhiễm và đảm bảo độ bền lâu dài trong điều kiện nhiệt độ cao.

Bề mặt nhẵn, ít hạt của buồng thạch anh giảm thiểu sự tạo hạt, điều này rất quan trọng để duy trì sự khắc đồng đều trên các tấm wafer. Thiết kế dòng khí thích hợp trong buồng giúp tăng cường tính nhất quán của quy trình và giúp loại bỏ vật liệu đồng đều, rất quan trọng trong chế tạo vi mạch tiên tiến.

Bảo trì thường xuyên, bao gồm làm sạch và kiểm tra, đảm bảo rằng buồng duy trì hiệu suất tối ưu qua các chu kỳ khắc lặp đi lặp lại. Các thiết kế buồng thạch anh tùy chỉnh cũng có sẵn để đáp ứng các yêu cầu cụ thể về lò và quy trình, cung cấp cho các nhà máy bán dẫn tính linh hoạt đồng thời tối đa hóa năng suất wafer và độ lặp lại của quy trình.